?    等離子滲氮是一種十分有效的生成界面膜層的熱處理方式。輝光放電等離子體中氮擴(kuò)散進(jìn)(jìn)入膜層中，從而增強(qiáng)工件表面硬度。工藝過(guò)程中待處理工件為陰極，通入氫氣及氮?dú)獾幕旌蠚怏w，在數(shù)百伏特及50~500Pa壓力下對(duì)陽(yáng)(yáng)極施偏壓。陰極勢(shì)降中，由于基體表面溫度高達(dá)450℃以上，氮離子獲得加速并撞擊基體表面從而氮元素滲入工具內(nèi)部。通過(guò)這種方式可形成含鐵或鉻、鉬、鋁及鎂等的氮化物化合層及擴(kuò)散層。其表面硬度可達(dá)1000HV，甚至更高。通常工件表面主要是被稱(chēng)作為白層的鐵氮化合物。氮含量可以根據(jù)應(yīng)用需要進(jìn)(jìn)行調(diào)節(jié)，甚至完全抑制以便為后續(xù)的硬質(zhì)(zhì)材料涂層創(chuàng)(chuàng )造更好的表面條件。生成的擴(kuò)散層從工件表面至核心幾十毫米的硬度降低非常平緩。
    在工業(yè)(yè)化沉積硬質(zhì)(zhì)膜方面，電弧蒸發(fā)(fā)工藝因其簡(jiǎn)(jiǎn)單便捷而占據(jù)著(zhù)非常重要的地位。工藝過(guò)程中，鍍層金屬因?yàn)樗a(chǎn)(chǎn)生的電弧在表面邊界快速移動(dòng)(dòng)而獲得蒸發(fā)(fā)、電離，在工件底盤(pán)通負(fù)偏壓情況下,金屬離子加速撞擊到工件上。電弧蒸發(fā)(fā)工藝單純采用物理方法使金屬蒸發(fā)(fā)，而不包括任何中介揮發(fā)(fā)性化合物，因此是一種典型的PVD（物理氣相沉積）工藝。通過(guò)添加含氮或含碳?xì)怏w，可形成氮化物和碳化物金屬薄膜。薄膜具有非常高的微硬度、低摩擦性能和很好的化學(xué)(xué)惰性。通常當(dāng)工藝溫度在180℃以上時(shí)(shí),可以獲得高質(zhì)(zhì)量的鍍層。因此，PVD工藝也可以適用于滲碳鋼。氮化和涂層技術(shù)(shù)的特點(diǎn)(diǎn)使對(duì)總體長(zhǎng)(cháng)度達(dá)4m的工件進(jìn)(jìn)行組合處理成為可能。同時(shí)(shí)，還可組合處理直徑1.5m、長(zhǎng)(cháng)度2m的大組件。