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    氮化處理的離子氮化

    來(lái)(lái)源:未知作者:admin發(fā)(fā)布時(shí)(shí)間:2017-07-06 08:30

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         此一方法為將一工件放置于氮化爐內(nèi),預(yù)先將爐內(nèi)抽成真空達(dá)10-2~10-3 Torr(㎜Hg)后導(dǎo)入N2氣體或N2 + H2之混合氣體,調(diào)整爐內(nèi)達(dá)1~10 Torr,將爐體接上陽(yáng)(yáng)極,工件接上陰極,兩極間通以數(shù)百伏之直流電壓,此時(shí)(shí)爐內(nèi)之N2氣體則發(fā)(fā)生光輝放電成正離子,向工作表面移動(dòng)(dòng),在瞬間陰極電壓急劇下降,使正離子以高速?zèng)_向陰極表面,將動(dòng)(dòng)能轉(zhuǎn)變?yōu)闅餑?,使得工件表面溫度得以上升,因氮離子的沖擊后將工件表面打出Fe.C.O.等元素飛濺出來(lái)(lái)與氮離子結(jié)合成FeN,由此氮化鐵逐漸被吸附在工件上而產(chǎn)(chǎn)生氮化作用,離子氮化在基本上是采用氮?dú)?,但若添加碳化氫系氣體則可作離子軟氮化處理,但一般統(tǒng)稱(chēng)離子氮化處理,工件表面氮?dú)鉂舛瓤筛淖儬t內(nèi)充填的混合氣體(N2 + H2)的分壓比調(diào)節(jié)得之,純離子氮化時(shí)(shí),在工作表面得單相的r′(Fe4N)組織含N量在5.7~6.1%wt,厚層在10μn以?xún)?,此化合物層強(qiáng)韌而非多孔質(zhì)(zhì)層,不易脫落,由于氮化鐵不斷的被工件吸附并擴(kuò)散至內(nèi)部,由表面至內(nèi)部的組織即為FeN → Fe2N → Fe3N→ Fe4N順序變化,單相ε(Fe3N)含N量在5.7~11.0%wt,單相ξ(Fe2N)含N量在11.0~11.35%wt,離子氮化首先生成r相再添加碳化氫氣系時(shí)(shí)使其變成ε相之化合物層與擴(kuò)散層,由于擴(kuò)散層的增加對(duì)疲勞強(qiáng)度的增加有很多助。而蝕性以ε相最佳。

    離子氮化處理的度可從350℃開(kāi)(kāi)始,由于考慮到材質(zhì)(zhì)及其相關(guān)(guān)機(jī)械性質(zhì)(zhì)的選用處理時(shí)(shí)間可由數(shù)分鐘以致于長(zhǎng)(cháng)時(shí)(shí)間的處理,本法與過(guò)(guò)去利用熱分解方化學(xué)(xué)反應(yīng)而氮化的處理法不同,本法系利用高離子能之故,過(guò)(guò)去認(rèn)為難處理的不銹鋼、鈦、鈷等材料也能簡(jiǎn)(jiǎn)單的施以?xún)?yōu)秀的表面硬化處理。

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